ویژگی انتقال تماس بین دستگاه‌ها به گوگل میت اضافه شد متاورس شرکت متا همچنان میلیاردها دلار ضرر روی دست مارک زاکربرگ می‌گذارد ظرفیت باتری قاب گلکسی بادز ۳ پرو مشخص شد آسیا بلاخیزترین قاره است کاهش قابل‌توجه حجم آپدیت‌های ویندوز ۱۰ با فناوری جدید مایکروسافت مدل پایه Surface Laptop 6 در راه است اگر آیفون دارید، می‌توانید بدون رمز وارد واتس‌اپ شوید اپل هوش مصنوعی خود را معرفی کرد | اینترنت لازم نیست؛ پردازش کنید! امضای جو بایدن پای لایحه «فیلترشدن یا فروش تیک‌تاک» |‌ اپلیکیشن چینی چه می‌کند؟ افزایش کاربران Threads | رقیب X حالا ۱۵۰میلیونی است برخی از مشخصات شیائومی ۱۵ لو رفت + جزئیات اعضای هیئت‌مدیره «انجمن هوش مصنوعی ایران» انتخاب شدند درباره ماه کامل صورتی که امشب (۵ اردیبهشت ۱۴۰۳) در آسمان می‌درخشد + دلیل نامگذاری کاهش تولید اپل ویژن پرو به‌دلیل تقاضای کمتر از حد انتظار قابلیت‌های جدید عینک متا ری-بن معرفی شد ویکی‌پدیای فارسی یک‌میلیونی شد رویداد «امید فردوسی» با رونمایی از کتاب «به توان هایتک» در دانشگاه فردوسی مشهد برگزار شد سامسونگ، به صورت رایگان، صفحه‌نمایش گوشی‌هایی را که مشکل خط سبز دارند، تعویض می‌کند شرکت فنلاندی گوشی اختصاصی خودش را خواهد داشت | HMD Pulse Pro به‌جای Nokia ارتش کره جنوبی احتمالا استفاده از آیفون را برای نیروهایش ممنوع کند «سیستم بادبان خورشیدی» ناسا چیست و چگونه کار می‌کند؟ + عکس
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->