بسته اینترنت ۱۴۰۴ خبرنگاران چه زمانی فعال می‌شود؟ + فیلم ریتم مخفی مغز در کنترل استرس کشف شد استودیو تیم‌ نینجا: نسخه اصلی بازی Nioh ۳ بهبودها و تغییرات زیادی خواهد داشت گلکسی S25 FE چه زمانی رونمایی می‌شود؟ طرح «نظام‌بخشی فضای مجازی» در مجلس اعلام وصول شد | صیانت ۳ در راه است؟ ضعف آنتن‌دهی و دسترسی دشوار به اینترنت در مشهد در زمان قطعی برق | چرا با قطع شدن برق آنتن موبایل هم می‌رود؟ گوگل در تبلیغ جدید پیکسل ۱۰، هوش مصنوعی اپل را به مسخره کرده است چرا مردم از اینترنت فیبر نوری استقبال نمی‌کنند؟ ویوو X۳۰۰ به دوربین جدید و قدرتمند ساخت سامسونگ مجهز خواهد بود ۸ ترفند جدید و غیرمعمول و کاربردی برای سؤال‌پرسیدن از چت‌جی‌پی‌تی آیا بازی‌های ویدیویی باعث افزایش ضریب هوشی کودکان می‌شود؟ اطلاعیه گروه انتخاب: اختلال ۹۰ درصد تلویزیون‌های اسنوا و دوو حل شده است بعد از نابودی بشریت، احتمالاً اختاپوس‌ها وارث تمدن انسان‌ها خواهند بود! برای اجرای بازی Battlefield ۶ چه مشخصات سیستمی نیاز است؟ چطور بفهمیم چت‌هایمان با ChatGPT در گوگل منتشر شده است یا نه؟ + راهنمای حذف ماجرای عجیب انتشار چت‌های کاربران ChatGPT در گوگل جزئیاتی جدید از زمان و شیوه رفع مشکل تلویزیون‌های هوشمند اسنووا و دوو (۱۱ مرداد ۱۴۰۴) حمله سایبری هکرها به بیش از ۹۰ نهاد آمریکا گوشی گلکسی S۲۵ FE سامسونگ به زودی عرضه می‌شود حساب گوگل کاربران زیر ۱۸ سال با هوش مصنوعی محدود می‌شود نوزادی که رویانش ۳۰ سال پیش فریز شده بود، سالم متولد شد
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
آخرین اخبار پربازدیدها چند رسانه ای عکس
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->