جزئیاتی جدید از مصوبه شورای عالی فضای مجازی درباره کسب‌وکار‌های اینترنتی (۲۷ تیر ۱۴۰۴) ارائه شکایت جدید ایران از استارلینک به اتحادیه بین‌المللی مخابرات همه چیز درباره نسخه جدید بازی جنگ‌های صلیبی (۲۰۲۵) + سیستم مورد نیاز و گیم پلی واکنش ستار هاشمی به بحث‌های اخیر درباره اینترنت طبقاتی (۲۶ تیر ۱۴۰۴) چرا بحث «اینترنت طبقاتی» در ایران دوباره جنجالی شد؟ + واکنش‌ها و حواشی ۴ مهارتی که کودکان را برای دنیای آینده آماده می‌‌کند بعد از جنجال‌های اخیر xAI دستورالعمل‌های این هوش مصنوعی اصلاح شد در ماه اخیر از حدود ۱۷۰ کشور به زیرساخت‌های کشور حملات سایبری شده است مدیرعامل انویدیا: هوش مصنوعی نحوه انجام ۱۰۰ درصد کار‌ها را تغییر می‌دهد «همراهان» (Companions): قابلیت جدید Super Grok برای مشترکین صحبت‌های جدید سخنگوی دولت درباره ارائه اینترنت آزادتر به خبرنگاران و احتمال رفع فیلتر تلگرام (۲۴ تیر ۱۴۰۴) Sun Day: اپ جدید جک دورسی برای ثبت ویتامین D دریافتی فرد اضافه‌شدن ویژگی‌های جدید به برنامه‌های آفیس ویندوز ۱۰ از سال ۲۰۲۶ متوقف می‌شود ویدئو | وزارت ارتباطات درباره اختلال مسیریاب‌ها: متوجه سختی وارد شده به مردم هستیم! چرا باید برای رسیدن به بهترین پاسخ از چندین هوش مصنوعی استفاده کرد؟ گوگل می‌خواهد ChromeOS و اندروید را با هم ادغام کند ویوو ایکس فولد ۵، سبک‌ترین گوشی تاشدنی کتابی دنیا، معرفی شد + مشخصات اپل آیفون ۱۷ را چه زمانی معرفی می‌کند؟ ماجرای اختلال در دامنه‌های ir چه بود؟ (۲۳ تیر ۱۴۰۴) غم و اندوه فصل تابستان یک حقیقت واقعی است! محققان ایمپلنت هوشمندی ساخته‌اند که به‌طور خودکار در بدن بیماران دیابتی دارو آزاد می‌کند
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->