کنترل‌های جدید ایکس باکس رونمایی شد اعتراض برای دریافت قبوض نجومی اینترنت + فیلم گوگل، مرورگر کروم را از سیستم‌عامل کروم مجزا می‌کند شکایت کاربران از اختلال اینترنت تریلر جدید بازی Crash Bandicoot 4: It’s About Time و نمایش گیم‌پلی بازی مدل جدیدی از گوشی گلکسی اس ۲۰ به زودی عرضه می‌شود رونمایی رسمی از اسمارت‌فون ال‌جی K42 با طراحی عجیب پنل پشتی اختلال شبکه موبایل اپراتورها تا ۳ روز دیگر رفع می شود نسخه جدید ویندوز ۱۰ ماه آینده عرضه می‌شود ترکیب استارتاپی فناوری با دفتر مشق مشخصات تبلت «گلکسی تب اکتیو۳» با باتری ۵۰۵۰ میلی آمپری فاش شد تشخیص موفقیت‌آمیز زلزله ۴/۵ ریشتری توسط سیستم لرزه‌نگار اندروید رونمایی از LG Q31؛ گوشی ۱۸۰ دلاری با استاندارد نظامی عکس‌های جدید پلی استیشن ۵ از نمایی بسته | بزرگ‌ترین کنسول تاریخ بازی‌های مدرن ممکن است پلی استیشن ۵ در روز عرضه به پیش‌خریدکنندگان تحویل داده نشود پیش‌بینی قیمت‌ پلی‌استیشن ۵ در ایران
خبر ویژه
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
ارسال نظرات
نام:
ایمیل:
* captcha:
* نظر:
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
سرخط خبرها

{*Start Google Analytics Code*} {*End Google Analytics Code*}