افشای مشخصات گوشی جدید سامسونگ ایلان ماسک در مخالفت با دونالد ترامپ، یک حزب سیاسی جدید تشکیل داد اپلیکیشن‌ها چگونه جاسوسی می‌کنند؟ هوش مصنوعی منابع انرژی را غارت می‌کند | زنگ خطر در مصرف برق و آب گوشی تاشوِ آیفون به‌زودی عرضه خواهد شد | باکیفیت و البته گران! بسته‌های اینترنت اپراتور همراه ایرانسل تا ۷۰ درصد گران شد! (۱۱ تیر ۱۴۰۴) نامه انجمن تجارت الکترونیک به وزیر ارتباطات درباره محدودیت پلتفرم‌ها مجیک V۵ آنر، باریک‌ترین گوشی تاشوی جهان + مشخصات و قیمت وزیر ارتباطات: اختلالات اینترنت ناشی از حملات خارجی است تحقیقات جدید: آلزایمر ممکن است یک بیماری مغزی نباشد مصوبه جدید دولت: پلتفرم‌های آنلاین طلا باید زیر نظر بورس بروند ماینرهای غیرمجاز، سالانه، بیش از ۲ میلیارد دلار به صنعت برق کشور خسارت می‌زنند آیا رابطه‌ای بین خوردن پنیر و کابوس‌دیدن وجود دارد؟ بازارها و خدمات مالی نوبیتکس به تدریج درحال بازگشایی است خستگی ناشی از هوش مصنوعی چیست و چطور با آن مقابله کنیم؟ مایکروسافت: هوش مصنوعی در تشخیص شرایط پیچیده بهتر از پزشکان عمل می‌کند دانشمندان می‌گویند مغز انسان نور تولید می‌کند کمیسیون اینترنت نصر تهران از دولت خواست از آسیب‌دیدگان دیجیتال جنگ هم حمایت کند سامسونگ: به فعال‌سازی ویژگی ضدسرقت گوشی اهمیت بدهید مجلس استفاده و حمل و خرید و فروش استارلینک را ممنوع کرد نمایشگر آیفون ۱۷ بزرگ‌تر از نمایشگر نسل‌های قبل خواهد بود
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->