گوگل تمام ابزارهای هوش مصنوعی‌اش را در Gemini Enterprise جمع کرد کشف شواهد جدیدی از وجود اقیانوس باستانی در مریخ چین تبدیل به بزرگ‌ترین تولیدکننده ربات‌های صنعتی جهان شد نمایش شگفت‌انگیز سه دنباله‌دار زمردین در آسمان شب پاییز ۱۴۰۴ + تاریخ و بهترین مکان رصد در ایران قطع دسترسی به اینستاگرام، فیس‌بوک و تیک‌تاک در افغانستان | فیلترینگ گسترده اینترنت توسط طالبان سقف قانونی سود موبایل‌فروشان از فروش گوشی چقدر است؟ برندگان نوبل شیمی ۲۰۲۵ اعلام شدند: مبدعان روش‌های نوآورانه‌ در طراحی و سنتز کاتالیزورهای فعال و پایدار ارزان‌ترین نسخه تسلا مدل Y رونمایی شد | تغییرات جدید برای جذب مشتریان اقتصادی دلایل اصلی خرابی زودهنگام مودم چیست؟ دومین درخشش پیاپی گوگل در نوبل فیزیک | تقدیر از پیشگامان محاسبات کوانتومی سامانه اعتراض آنلاین به جریمه‌های رانندگی راه‌اندازی شد احتمال بروز اختلال موقت در بخشی از شبکه ارتباطی خراسان رضوی در بامداد پنجشنبه (۱۷ مهر ۱۴۰۴) تقدیر اینستاگرام از برترین و نوآورترین محتواسازان با Rings Award ایلان ماسک: سال آینده یک بازی تولیدشده با هوش مصنوعی منتشر خواهیم کرد گوگل برای هک هوش مصنوعی جمینی جایزه ۲۰ هزار دلاری تعیین کرد آیا کابل شارژ هم از جعبه گوشی‌ها حذف خواهد شد؟ برندگان نوبل فیزیک ۲۰۲۵ اعلام شدند: کاشفان تونل‌زنی کوانتومی ماکروسکوپی و کوانتیزاسیون انرژی ChatGPT به ۸۰۰ میلیون کاربر هفتگی رسید | رشد بی‌سابقه در کمتر از دو سال گوگل: با محدودکردن نصب برنامه‌های اندروید از منابع غیررسمی به امنیت کاربران کمک می‌کنیم آیا قطع ارتباط با ماهواره‌های هدهد و کوثر به دلیل خرابکاری بوده است؟ برندگان جایزه نوبل پزشکی ۲۰۲۵ معرفی شدند: کاشفان سلول‌های تنظیم‌کننده سیستم ایمنی بدن
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
آخرین اخبار پربازدیدها چند رسانه ای عکس
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->