ایلان ماسک کارمند ایرانی شرکت تسلا را اخراج کرد + علت هک بیش از صد سایت فعال رژیم صهیونیستی توسط گروه هکری ابابیل+تصاویر هدست اپل ویژن پرو در اتاق کولونوسکوپی به پزشکان در تشخیص سرطان کمک می‌کند سامسونگ از ارزان‌ترین ایرباد خود با نام Galaxy Buds Core رونمایی کرد + مشخصات آیا اینستاگرام رفع فیلتر شده است؟ (۴ تیر ۱۴۰۴) اختلال گسترده در مکان‌یاب اپلیکیشن‌‌های کاربران | آیا GPS در ایران قطع شده است؟ آیا قرار است تلگرام رفع فیلتر شود؟ (۴ تیر ۱۴۰۴) اینترنت بین‌الملل در تمام اپراتور‌ها وصل شد (۴ تیر ۱۴۰۴) شهرداری مشهد در «محور مالی و اقتصادی» نخستین لیگ خلاقیت کلان‌شهر‌ها رتبه دوم را کسب کرد اطلاعیه جدید نوبیتکس | همه چیز را به حالت عادی برمی گردانیم حملات سایبری ایران در کمین آمریکا و اسرائیل استفاده از واتساپ روی تمام دستگاه‌های مجلس نمایندگان آمریکا ممنوع شد زمان رفع محدودیت‌های اینترنت بین‌الملل بعد از آتش‌بس میان ایران و رژیم صهیونیستی ویدئو انفجار ورودی زندان اوین، غیرواقعی و ساختۀ هوش مصنوعی است! + عکس دارایی‌های رمزارزی صرافی‌ها به کیف‌پول‌های سرد منتقل شد | امکان برداشت رمزارز وجود ندارد مکالمه نامحدود و رایگان تلفن ثابت تا پایان تیرماه ۱۴۰۴ تفاوت راکتور هسته‌ای و مرکز غنی‌سازی اورانیوم چیست؟ | بمباران کدام‌یک خطرناک‌تر است؟ همه‌چیز درباره بمب‌افکن B‑2، مشخصات آن و مأموریت‌هایش + عکس و جدول فعال استرالیایی حمایت گوگل از صهیونیست‌ها را افشا کرد آیا پلتفرم «رمزینکس» هک شده است؟ توضیحات جدید مدیرعامل «نوبیتکس» درباره حمله هکری اخیر (۳۱ خرداد ۱۴۰۴)
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->