کوسه‌های بی‌دندان؛ قربانیان خاموش تغییرات اقلیمی اطلاعات فصل هشتم کالاف دیوتی موبایل ۲۰۲۵ + معرفی گان و آیتم‌های جدید اعتراض کارمندان مایکروسافت به رابطه با اسرائیل و اخراج ۲ نفر از آن‌ها جمع کردن زباله، وظیفه جدید گارد ملی آمریکا در واشنگتن! FDA به ایمپلنتی که روماتیسم مفصلی را درمان می‌کند تاییدیه داد OpenAI مکالمات کاربران با ChatGPT را به پلیس می‌دهد توضیحات رئیس شورای اطلاع‌رسانی دولت درباره آخرین وضعیت رفع فیلتر تلگرام + فیلم ناتینگ از تصاویر عکاسان حرفه‌ای به‌جای نمونه دوربین فون ۳ استفاده کرده است ریلمی از دو گوشی هوشمند عجیب رونمایی کرد: یکی با باتری ۱۵۰۰۰ میلی‌آمپرساعتی و دیگری با کولر! درخشش نخبه مشهدی در المپیاد جهانی نجوم | ارشیا میرشمسی با مدال طلا به شهرش بازگشت پیش‌بینی‌های هواشناسی چطور تهیه می‌شوند؟ + عکس معترض‌ترین کاربر اینترنت! یک تست جدید مبتنی بر گوشی هوشمند خطر ابتلا به دیابت را در ۱۰ دقیقه تشخیص می‌دهد تبلت گلکسی تب S10 لایت رونمایی شد + مشخصات و قیمت رئیس سابق طراحی گوگل می‌گوید همه شرکت‌های بزرگ درباره آینده اشتباه می‌کنند گزارش‌هایی از یک ویژگی جذاب در آیفون ۱۷ پرو: شارژ بی‌سیم ایرپاد و اپل واچ با گوشی مسائل مهم در هنگام خرید سیم کارت اختلال GPS چقدر به اقتصاد کشور خسارت زده است؟ تصویر گوشی ریلمی 15T لو رفت + مشخصات دانشمندان دستگاهی ساخته‌اند که گفتار درونی افراد را به صوت تبدیل می‌کند گوگل دیگر تبلت نمی‌سازد
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
آخرین اخبار پربازدیدها چند رسانه ای عکس
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->