شرکت متا می‌خواهد برای مصرف برق مراکز داده و هوش‌ مصنوعی‌اش انرژی هسته‌ای بخرد ادوبی اپلیکیشن اندروید فتوشاپ را به‌صورت آزمایشی منتشر کرد بسته‌های ویژه همراه اول ویژه عرفه تا اربعین ۱۴۰۴ + روش فعالسازی بخش زیادی از ثروت ۲۰۰ میلیارد دلاری بیل گیتس برای توسعه آفریقا صرف می‌شود به‌کارگیری پهپادها و هوش مصنوعی برای رصد حریم تهران خبرهایی از دردست‌ساخت‌بودن نسخه چندنفره بازی مرد عنکبوتی چین اولین ربات انسان‌نمای نظافت‌گر هتل را رونمایی کرد + فیلم آیا XChat همان‌قدر که ایلان ماسک ادعا می‌کند امنیت دارد؟ نامه وزارت اقتصاد به رئیس‌جمهور درباره ممنوعیت همکاری داروخانه‌ها با پلتفرم‌های توزیع دارو مایکروسافت قوانین ویندوز ۱۱ برای پورت‌های USB-C را تغییر داد بهرام عکاشه، نخستین استاد زلزله‌شناسی ایران درگذشت NotebookLM: ده نکته طلایی برای استادشدن در ابزار قدرتمند گوگل + راهنما به‌زودی امکان پرداخت با ریال دیجیتال در فروشگاه‌های اینترنتی فراهم می‌شود معرفی بازی Tofu Drifter + دانلود اندروید و IOS هشدار مایکروسافت به کاربران اپلیکیشن Authenticator: رمزهای عبور خود را ذخیره کنید واردات همه برند‌های گوشی همراه آزاد شد (۱۰ خرداد ۱۴۰۴) شرکت ایکس سرویس پیام‌رسان XChat را برای برخی کاربران فعال کرد نمونه ارتقایافته ماهواره کوثر آماده پرتاب می‌شود واکنش ایلان ماسک به اضافه‌شدن گراک به تلگرام: هنوز قراردادی امضا نشده است! گوگل: برای حل مشکل خالی‌شدن سریع باتری در اندروید اینستاگرامتان را آپدیت کنید!
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->